EUV光刻机都搞不定的0.7nm芯片让美国造出来了！是真牛还是吹牛？

资料来源：Zyvex Labs官网、科技门户等物联网智库 整理发布导读美国的技术难道比ASML更加先进了么？此前美方是向荷兰施压，现在是把主动权进一步掌握在自己手里了么？Zyvex Labs真的绕过EUV光刻机弯道突围了么？本文将一探究竟。几个月前，美国曾向荷兰施压，阻挠芯片光刻机生产商ASML向中国出口光刻机——不只是最先进的设备，还包括了上一代采用DUV技术的光刻机，其制造能力最高可以生产7nm制程的芯片。而可以制造5nm及以下制程芯片的EUV光刻机，早在两年前就因为美国的施压而无法进口。现如今，EUV光刻机几乎已经成了尖端半导体制造技术的代名词，ASML是全球唯一的供应商。但即使强如ASML，其上一代产品极限制程也只能做到2nm，到2024年或2025年交付的全新一代High－NA极紫外光刻机才可能突破2nm以下的制程，1nm以下可谓难如登天。然而，就在 ………………………………