台积电NIL等下一代光刻专利遥遥领先于三星热

来源：电子技术杂志据EDN电子技术设计了解，在包括EUV在内的下一代光刻技术方面，台积电拥有的专利数量远超三星电子，台积电拥有 448 项专利，其竞争对手三星电子275项，台积电多约 170 项。据EDN电子技术设计了解， TechInsights日前报道称表示，在包括EUV在内的下一代光刻技术方面，台积电拥有的专利数量远超三星电子，台积电拥有 448 项专利，其竞争对手三星电子275项，台积电多约 170 项。涉及EUV的主要公司包括全球唯一的EUV光刻设备制造商ASML、ASML主要合作伙伴的光学公司卡尔蔡司，以及通过EUV工艺制造半导体的台积电和三星电子。目前，这四家公司的EUV光刻专利的总数为1114件。其中，卡尔蔡司（353例）和ASML（345例）占据了相当大的比例。台积电在晶圆代工界排名第一，也拥有279项专利。三星电子记录了 137 起相关专利，是其主要竞争对 ………………………………