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【材料】范德华表面上的氧化还原用于二维材料可逆掺杂

X-MOL资讯  · 公众号  ·  · 2021-03-03 20:31
近年来,二维原子晶体材料在柔性电子器件和光电器件领域表现出优异的性能,其光学和电学性能调控备受学者关注。其中,掺杂是一种至关重要的调控半导体性能的途径。一般说来,范德华表面是化学惰性的,但通过简单的光化学效应却可以在二维各向异性半导体ReX2 (X = S或者Se)的范德华表面上引入无损的,大面积的和可逆的氧化还原反应。潮湿条件下的紫外线照射可以发生氧化,激光照射可进一步实现二硫化铼(ReS2)和二硒化铼(ReSe2)的可逆还原,从而达到可控的掺杂效应。近日,香港城市大学化学系(CityU CHEM)以及超金刚石薄膜研究中心(COSDAF)李淑惠(Thuc Hue Ly)研究小组报道了通过潮湿条件下的紫外线照射或者激光辐照在完美的ReX2 (X = S或者Se) 范德华表面成 ………………………………

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