印度理工学院Shaibal K. Sarkar最新AEL：自修复显著提高NiO溅射正式钙钛矿太阳能电池的性能

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使用射频磁控溅射沉积将金属氧化物薄膜作为空穴传输层应用到卤化物钙钛矿层上会严重损害器件的光伏性能。因此，尽管具有经济优势和可扩展性潜力，但这种方法通常不受青睐。鉴于此，2024年12月2日 印度理工学院Shaibal K. Sarkar 于AEL刊发自修复显著提高NiO溅射正式钙钛矿太阳能电池的性能的研究成果，确定了这种限制的主要原因是在将NiO溅射沉积到卤化物钙钛矿上时近界面区域的有机部分损失以及随后产生的界面缺陷。此外，研究表明，在没有任何外部干预的情况下，自我修复过程能够显著补偿溅射过程的不利影响，使设备效率达到其初始值的180-220%， 这使得具有溅射NiO HTL的正式器件的功率转换效率达到了有史以来的最高水平 。利用光学和阻抗谱，研究了这种自修复过程的机制，建立了受热控制且独立于存储环境的过程的动力学，表明离子物 ………………………………