全新国产DUV光刻机曝光：“套刻≤8nm”是个什么水平？

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这两天不少网友都在热议工信部披露的新款国产 氟化氩光刻机 的消息，一时间，各种关于国产光刻机大突破言论满天飞，甚至还有人一看到“套刻≤8nm”就认为这是8nm光刻机，也是令人啼笑皆非。 其实，早在6月20日，工信部就曾发布了《首台（套）重大技术装备推广应用指导目录（2024年版）》公示，集成电路生产设备一栏当中，就有公示一款氟化氪光刻机和一款氟化氩光刻机。随后在9月9日，工信部又将该 通知重发了一遍： 氟化氪光刻机其实就 是老式的248nm光源的KrF光刻机，分辨率为≤110nm，套刻精度≤25nm； 氟化氩光刻机则 是193nm光源的ArF光刻机（也被称为DUV光刻机），但披露的这款依然是干式DUV光刻机，而非更先进的浸没式DUV光刻机（也被称为ArFi光刻机）。  从官方披露的参数来看，该DUV光刻机分辨率为≤65nm，套刻精度≤8nm。 虽然相比之 ………………………………