【JH-7645】光刻机技术全景报告（37页）

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编辑｜一砚风雨 186-4914-3149 （商务合作请联系） 来源｜星河智源 资料｜加入 付费 星球，或者添加小编微信（ Battery_Jianghu 或 文末二维码 ）领取 本报告导读   　　专利趋势 　　展示该技术领域逐年公开的专利申请量、授权量及对应授权率(当年申请的专利授权量/当年申请量)。申请量较多的年份为该技术领域热度较高的年份申请趋势上升可以反映该技术领域研发投入呈上升趋势。由于发明授权的周期长,专利公开具有延后性,因此近2-3年的申请量和授权率可能偏低。 ★★★★★研★究★★报★告★★★★★ 篇幅限制，全文请联系小编领取 【免责声明】 本文摘自网络，版权归原作者所有，仅用于技术分享与交流，非商业用途！对文中观点判断均保持中立，若您认为文中来源标注与事实不符，若有涉及版权等请告知，将及时修订删除，谢谢大家的关 ………………………………