中国企业或陷入与富士胶片EUV光刻胶的专利纠纷

文章预览

作者： 黄莺 光刻胶，是集成电路半导体制造的核心材料，全球90%的光刻胶几乎都由日本企业生产，与光刻机一样，是一个妥妥的卡脖子领域。 不过目前光刻材料的国产化速度已经加快。 在这一过程中，国产 化替代势必会引发日本光刻胶企业的 回应 。 2024年12月23日，国家知识产权局公告显示， 日本富士胶片株式会社 （简称“富士胶片”）的一件名为“ 图案形成方法、感光化射线性或感放射线性树脂组合物以及抗蚀剂膜 ”的专利ZL201180025664.8，经合议组审理后，认为该专利权利要求1不具备创造性而无效，权利要求2-17继续维持有效，因此宣告该专利权 部分无效 。无效请求人是一个自然人“陈荣玉”，很显然，这是使用了“稻草人”策略隐藏了与富士胶片可能发生纠纷的实体名称。 根据说明书记载，该发明 涉及一种形成负型图案的方法，其适于 ………………………………