[MASK] is All You Need！！！

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点击下方 卡片 ，关注 「3DCV」 公众号 选择 星标 ，干货第一时间送达 来源：3DCV 添加小助理：cv3d001，备注：方向+学校/公司+昵称，拉你入群。文末附3D视觉行业细分群。 扫描下方二维码，加入 「3D视觉从入门到精通」知识星球 ( 点开有惊喜 ) ，星球内凝聚了众多3D视觉实战问题，以及各个模块的学习资料： 近20门独家秘制视频课程 、 最新顶会论文 、计算机视觉书籍 、 优质3D视觉算法源码 等。想要入门3D视觉、做项目、搞科研，欢迎扫码加入！ 一个很有意思的题目~ 0. 论文信息 标题：[MASK] is All You Need 作者：Vincent Tao Hu, Björn Ommer 机构：CompVis @ LMU Munich, MCML 原文链接：https://arxiv.org/abs/2412.06787 代码链接：https://compvis.github.io/mask/ 1. 导读 在生成模型中，两种范式在各种应用中获得了吸引力:基于下一组预测的掩蔽生成模型和基于下一噪声预测的非自 ………………………………