ILT技术实现新突破,计算光刻进入3.0时代！芯片公司爆员工大批跳槽到竞争对手；高通转向自研,推新版手机芯片；硅片龙头员工离职潮

主要观点总结

本文报道了计算光刻技术进入3.0时代，东方晶源引领技术变革；TCL中环大幅下调开工率引发员工离职潮；中国芯上市公司境外子公司布局；日本尼康公司在华营收占比情况；三星业绩不佳员工大量跳槽到竞争对手SK海力士；高通推出新版智能手机芯片转向自研；英特尔有意联手三星合作对抗台积电等新闻。

关键观点总结

关键观点1: 计算光刻技术进入3.0时代，东方晶源引领变革

介绍计算光刻技术的发展历程，东方晶源的重要性及其最新技术成果

关键观点2: TCL中环大幅下调开工率引发员工离职潮

报道TCL中环的减产决策引发的员工离职问题，以及行业内的其他反应

关键观点3: 中国芯上市公司境外子公司布局

分析中国芯上市公司境外子公司的数量、业务性质和注册地点等情况

关键观点4: 日本尼康公司在华营收占比情况

介绍日本尼康公司在全球芯片供应链中的地位，及其在中国市场的营收占比情况

关键观点5: 三星业绩不佳员工大量跳槽到竞争对手SK海力士

报道三星员工大量跳槽到SK海力士的情况及其影响

关键观点6: 高通推出新版智能手机芯片转向自研

介绍高通推出新版智能手机芯片的情况及其转向自研的决策

关键观点7: 英特尔有意联手三星合作对抗台积电

报道英特尔与三星之间的合作意向及其对抗台积电的决策和策略

文章预览

1.计算光刻进入3.0时代，东方晶源ILT引领技术变革 2.大幅下调开工率，TCL中环引发员工离职潮 要求赔偿N+1 3.【集微发布】中国芯上市公司境外子公司布局：30%通过收购取得 生产性质公司集中在东南亚 4.尼康在华营收占比17% ArF光刻机高度依赖中国大陆 5.三星业绩不佳 爆员工“大批”跳槽到竞争对手SK海力士 6.高通推出新版智能手机芯片 转向自研 7.英特尔有意联手三星合作对抗台积电 1.计算光刻进入3.0时代，东方晶源ILT引领技术变革 在半导体制造领域，计算光刻技术是推动芯片制程不断突破的关键因素之一。随着集成电路的尺寸不断缩小，计算光刻技术应运而生，成为提升光刻精度和芯片性能的重要手段。在国内尖端光刻设备受限的背景下，其重要性更是不言而喻。 在这一技术革新的浪潮中，东方晶源以其前瞻性的布局和强大的研发能力，成为推 ………………………………