佳能纳米压印光刻机迎来重大突破！

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汽车芯片设计资料包 佳能去年推出了 第一台纳米压印光刻 （NIL） 机器 ，该机器可用于生产芯片，而无需使用传统的 DUV 或 EUV 系统，这引起了不小的轰动。然而，由于芯片制造商不熟悉它，因此对该工具和一般的 NIL 方法都存在很多怀疑。据 日经 新闻报道，本周，这家日本公司将其 FPA -1200NZ2C 纳米压印光刻系统 交付 给德克萨斯电子研究所 （TIE） 进行研究。 虽然看起来可能不是什么大新闻，但它可能是 佳能和纳米压印光刻的重大突破 。德克萨斯电子研究所（Texas Institute for Electronics）从德克萨斯大学纳米制造系统中心（Nanomanufacturing Systems Center）发展而来，“以响应行业对高级异构集成日益增长的兴趣”。TIE 得到了主要半导体公司联盟的支持，包括 Intel、NXP 和 Samsung。它还得到了 DARPA 的支持，DARPA 最近向 TIE 和 UT 提供了 14 亿美元的赠款 ， ………………………………