从极紫外光刻（EUV）技术看新兴技术的发展

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2022年全球半导体产业的市场规模约为6000亿美元，分析师预计2030年可以超过一万亿美元。半导体技术自20世纪60年代至今，一直遵守着“摩尔定律”的约束。不断涌现的技术创新推动了半导体制造水平日益精进，其中极紫外光刻（EUV）技术占据了极为重要的地位。 极紫外光刻（EUV）技术作为过去十年间最重要的新兴技术，由美国政府实验室率先研究、由英特尔持续资助研发，最终由一家荷兰公司垄断并首先卖给了英特尔的竞争对手。这是一个如何曲折离奇的故事？ 光刻技术 光刻是使用感光化学品在硅晶片上印制电路的过程。光线通过掩膜的过滤，将掩膜上的电路图案投射到覆盖着感光化学品（光刻胶）的晶圆上。光线会与晶圆表面的感光材料相互作用，蚀刻出对应的电路图案，重复数十次就能够在晶圆上制作出所需的电路。 随着半导体行业的进 ………………………………