对话纳米压印技术发明人周郁：用变革性的新技术突破光刻瓶颈！

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20世纪90年代中期，传统的光刻技术在制造微小结构时遇到了瓶颈。纳米压印技术的出现，不仅给微电子制造领域而且给广泛的纳米制造领域开辟一条革命性的全新道路。 由于它的工作原理于传统的光刻技术是本质性的不同， 纳米压印技术据有许多制造优势是传统的光刻技术无法相比的。比如，高分辨率 (0.3 nm 分辨率)，  高密度 （ < 6 nm 半间距), 3D 图案成型, 无光学散射衍射, 衬底反射，大面积，兼容柔性衬底，设备工艺简单, 低能耗, 及高效、低成本的优势。这使纳米压印逐步成为大规模生产纳米结构的关键技术之一，现在已被广泛应用于LED、AR/VR、光学器件、生物医学检测等多个领域。纳米压印已产生数十亿美元的年产值， 而且迅速成长。 前不久，随着佳能公司全球首个纳米压印半导体制造设备FPA-1200NZ2C的推出和交付，宣告着纳米压印技术在半 ………………………………