支持2埃米量产！ASML最新路线图曝光：2030年推出Hyper NA EUV！

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近年来，随着半导体尖端制程工艺越来越逼近物理极限，荷兰光刻机大厂ASML生产的EUV光刻机已经成为了继续推动晶体管微缩的关键设备，而当制程工艺进入2nm以下的埃米时代，可能就需要用到售价高达3.5亿欧元的High NA EUV（0.55NA）光刻机。 在2023年底，ASML已经开始向英特尔交付了首套High NA EUV光刻机，英特尔也于近期完成了组装。虽然，High NA EUV光刻机刚开始出货，但是ASML已经在加紧研发新一代的Hyper-NA EUV光刻机，为其寻找合适的解决方案。根据EETimes报导，ASML近期公布了还处于开发早期阶段的Hyper NA EUV光刻机的技术蓝图，预计最快将会在2030年推出。 Hyper NA EUV光刻机2030年推出 ASML前总裁兼首席技术官、现任公司顾问Martin van den Brink在2024年5月举行的imec ITF World的演讲中宣布，ASML已经可用其试验性质的High NA EUV（EXE：5200）光刻机打印生产8nm线宽，这是 ………………………………