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中国人民大学贺泳霖等 AFM:耐磨且湿度不敏感的图案化离子电路制备技术

高分子科技  · 公众号  · 化学  · 2024-10-11 12:38

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点击上方 “ 蓝字 ” 一键订阅 随着人机交互界面技术的发展,人们对离子电路的需求不断增加。离子电路的图案化技术在功能集成和微型化方面非常重要,它可以控制电路结构和布局,促进各种模块的协作和复杂应用的开发,在提高性能的同时减少了电路间的干扰和损耗。然而,传统的表面改性电路在实际使用中需要频繁地与物体直接接触,这可能会导致磨损而脱落,或是电路断裂而失效。因此,开发一种具有优异耐磨性和稳定性的离子电路图案化方法变得尤为重要。 本研究提出了一种名为离子墨水直写( Direct ionic ink writing ,   DIIW )技术,通过笔写、印章或喷墨打印等方式,将离子液体( ILs )渗透进聚氨酯( PU )再聚合,形成互穿网络,制造出一种可抵抗砂纸磨损或胶带剥离的图案化离子电路。此外,在油性 PU 内部聚合的疏水离子液体, ………………………………

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