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文章来源: 晶格半导体 原文作者:晶格半导体 本文介绍了拉晶时为什么要旋转。 提高晶体质量 旋转可以促进熔体的对流,帮助杂质和不纯物质向熔体中心移动,从而减少晶体中的缺陷和杂质浓度。 控制晶体生长速率 旋转可以影响熔体和晶体界面的温度梯度,进而控制晶体的生长速率。 减少位错 旋转有助于减少晶体生长过程中产生的位错,提高晶体的完整性。 防止熔体和晶体的接触 旋转可以减少熔体和晶体之间的接触,避免熔体污染晶体。 提高热效率 旋转有助于更均匀地分布热量,提高热效率,确保晶体生长的均匀性。 控制晶体直径 通过调整旋转速度,可以控制晶体的直径,满足特定应用的需求。 避免晶体生长过程中的不稳定性 旋转有助于减少晶体生长过程中可能出现的不稳定性,如晶体的断裂或不均匀生长。 提高生产效率 旋转可以加
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