光刻胶最强龙头，要大规模量产了

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光刻机的国产化正在悄悄取得进展。 据网上流传的消息，国产DUV光刻机已经在某芯的产线上投产，良率约70%左右，预计到年底将优化到90%以上。 另外，使用海外光刻机通过双重曝光生产7nm芯片的技术已经成熟，下半年预计升级至四重曝光的5nm芯片，并在明年向国产DUV设备迁移。 中美科技战从2017年中兴通信被制裁开始，至今不知不觉已经是第8个年头。 8年，原子弹（1956-1964）都研制成功了，光刻机也是时候出成果了。 而在国产光刻机取得突破的同时，光刻胶的好消息也变得越来越多。 比如下面这条消息： “彤程新材4月30日在官微宣布，部分ArF/ArFi光刻胶产品通过国内芯片厂验证，取得了规模量产订单，已开始批量供货。” 在光刻胶板块里，彤程新材属于后来居上的龙头，而且业绩也很不错。 23年年报，公司归属净利4.0亿元，同比增长36.37%，今年 ………………………………