文章预览
点击蓝字 关注我们 为了方便各位同学交流学习，解决讨论问题，我们建立了一些微信群，作为互助交流的平台。 加微信交流群方式: 1.添加编辑微信:13162018291； 2.告知:姓名-课题组-研究方向，由编辑审核后邀请至对应交流群(生长，物性，器件)； 欢迎投稿欢迎课题组投递中文宣传稿，免费宣传成果，发布招聘广告，具体联系人：13162018291（微信同号） 成果介绍 将客体离子插入到层状材料的范德华（vdW）间隙中是创造新材料相和功能的有力途径。离子栅控是一种控制离子运动和结构的技术，可用于插层和表面静电掺杂。离子栅控技术的进步使原位探测离子扩散动力学、载流子掺杂和输运性质成为可能。 有鉴于此，近日， 日本理化学研究所新型物质科学中心Yoshihiro Iwasa等对单晶MoS 2 的钾离子（K + ）插层进行了原位电阻率和拉曼实验
………………………………
