光刻胶产业化又传利好，背后公司成立不足5个月，成色几何？

主要观点总结

太紫微公司推出的T150 A光刻胶产品通过半导体工艺量产验证，并实现配方全自主设计。该产品对标国际头部企业主流KrF光刻胶系列，在极限分辨率和工艺宽容度等方面表现优异。国产光刻胶行业仍面临原材料依赖进口的问题，太紫微公司的光刻胶产品未来能否在市场上取得成功还需进一步验证。

关键观点总结

关键观点1: 太紫微公司推出新型光刻胶产品T150 A

该产品在半导体工艺中通过了量产验证，并且实现了配方的完全自主设计。

关键观点2: T150 A产品对标国际头部企业主流KrF光刻胶系列

该产品相较于国外同系列产品UV1610在光刻工艺中表现出更高的极限分辨率和工艺宽容度，稳定性更高。

关键观点3: 国产光刻胶行业面临原材料依赖进口的问题

国内企业在光刻胶原材料方面存在一定的进口依赖，太紫微公司的光刻胶产品所使用的原材料也存在进口依赖的可能。

关键观点4: 太紫微公司光刻胶产品的市场前景需进一步验证

虽然太紫微公司的光刻胶产品已经通过了一些验证，并且在某些方面表现出优异的性能，但其在市场上的表现和客户反馈仍需进一步观察。

文章预览

光刻胶产业化再度传出利好。 据东湖国家自主创新示范区官网昨日（10月15日）消息，近日武汉太紫微光电科技有限公司（下称“太紫微公司”）推出的T150 A-光刻胶产品，已通过半导体工艺量产验证，实现配方全自主设计。 该产品“对标国际头部企业主流KrF光刻胶系列。相较于国外同系列产品UV1610，T150 A在光刻工艺中表现出的极限分辨率达120nm，且工艺宽容度更大，稳定性更高，坚膜后烘留膜率优秀，其对后道刻蚀工艺表现更为友好，通过验证发现T150 A中密集图形经过刻蚀，下层介质的侧壁垂直度表现优异”。 据悉， 太紫微公司由华中科技大学武汉光电国家研究中心团队创立。 该团队立足于关键光刻胶底层技术研发，在电子化学品领域深耕二十余载。武汉光电国家研究中心是科技部于2017年批准建设的第一批，也是唯一的一批6个国家研究中心之 ………………………………