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光学神经技术，利用光与神经元连接，从而在较大的皮层区域上，以高时空精度监测和调控神经活动。在头戴式微型化显微镜方面，目前已经取得了相当大的研究进展，但是现有设备体积庞大，并且在人类中的应用，将需要更非侵入性的、完全可植入的形状因素form factor。 近日，美国 哥伦比亚大学，（Columbia University）Eric H. Pollmann，Kenneth L. Shepard 等，在Nature Electronics上发文，报道了一种超薄、微型互补金属氧化物半导体 complementary metal–oxide–semiconductor (CMOS) 光学器件，以用于大脑的硬膜下隙subdural space的双向光学刺激和信号记录。 这种荧光成像和光遗传学刺激的互补金属氧化物半导体CMOS专用集成电路，创建了总厚度小于200µm探针，并且足够薄，可完全位于灵长类动物大脑的硬膜下隙内。还展示了用于小鼠模型的成像和光学刺激，并可用于解码非
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