主要观点总结
本文讨论了电镜研究中电子束诱导的碳污染问题，介绍了测量污染厚度的方法，分析了污染随电子能量、束流和总剂量的变化，并测试了烘烤、等离子清洗和电子束清洗等减轻污染的策略。研究发现，高束流、高剂量率和低电子能量有利于减少污染，而电子束清洗是最有效的短期策略，等离子清洗是持久且有效的选择，但需要注意其可能导致的样品损坏。
关键观点总结
关键观点1: 电子束诱导的碳污染问题
在电镜研究中，电子束会诱导碳污染，覆盖感兴趣的结构并降低分辨率，导致荷电和干扰分析。
关键观点2: 污染测量方法
文中介绍了使用HAADF成像来定量测定污染厚度的方法，并分析了污染随电子能量、束流和总剂量的变化。
关键观点3: 污染缓解策略
测试了烘烤、等离子清洗和电子束清洗等策略，发现电子束清洗短期内有效，等离子清洗是持久且有效的选择，但需注意样品损坏风险。
关键观点4: 污染的生长行为
研究了污染随电子能量、束流和总剂量的变化，发现高束流、高剂量率和低电子能量有利于减少污染。
关键观点5: 污染形态和影响因素
分析了污染形态和影响因素，包括前驱体限制和电子限制模式，以及电流和剂量率对污染的影响。
文章预览
在 大部分的 电镜研究中，污染是一种副作用，它会覆盖感兴趣的结构并降低分辨率。 关于 污染 的 研究已经有几十年的历史，但关于最小化污染的有利成像条件 以及 缓解污染的缓解仍然 是 悬而未决的问题。 本文讨论了 30 keV 电子能量下电子束诱导的碳污染 （ STEM-in-SEM ）， 并介绍了 一种可靠的方法来测量污染厚度， 以及 最大限度地减少污染的成像条件 （ 使用薄的无定形碳膜作为测试样品 ） 。 污染厚度随着电子能量降低到约 1 keV 而增加，但在 1 keV 以下降低。污染随束流的增加而增加，但在大 束 流下饱和。高剂量率 ， 短时间 可减少污染。在经过测试的污染缓解方法中，等离子清洗 （ plasma cleaning ） 和 电子 束 清洗 （ beam showering ） 是最有效的。 1 电子束诱导的碳污染 概述 电子束诱导的碳污染 不仅 覆盖了感兴趣的结构，恶化了分辨率
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