主要观点总结
文章介绍了近期芯片行业的三大事件：西方对中国出台光刻机新禁令，中国光刻机的重大突破以及国产光刻机在中低端芯片市场上的突破。文章还提到了中国在光刻机研发方面的进展，包括从低端到高端不同工艺层次的光刻机都在同步研发中，预计在未来几年内会陆续取得突破。此外，文章还介绍了国内企业在光刻机研发方面的投入和进度，以及国产光刻机对全球芯片市场的影响。
关键观点总结
关键观点1: 西方对中国出台光刻机新禁令
详细描述了新禁令的内容和背景，以及其对国内芯片产业的影响。
关键观点2: 中国光刻机的重大突破
介绍了中国在光刻机技术方面的突破，包括中电科推出的65nm干式光刻机和上海微电子的28nm光刻机等。
关键观点3: 国产光刻机在中低端芯片市场上的突破
阐述了国产光刻机在中低端芯片市场上的应用和发展趋势，以及其对全球芯片市场的影响。
关键观点4: 中国光刻机研发进展
详述了中国在光刻机研发方面的全面布局和持续进步，包括对各个工艺层次光刻机的研发进展和预期成果。
关键观点5: 私享版服务介绍
介绍了文中提到的私享版服务的内容和优惠活动，以及其在投资研究中的作用。
文章预览
最近几天，芯片行业发生了三件大事，太热闹了！ 一件是西方又对中国出台光刻机新禁令了，第二、三件则是中国光刻机的重大突破曝光，涉及28nm芯片量产和EUV技术的突破，看点极多。 每到下半年，接近年底，美西方都要出台一些针对中国芯片产业的禁令。 这似乎已经是常规操作了。 比如去年，禁止了英伟达中高档芯片对中国的出口，也禁止了ASML两款中高档光刻机 NXT:2050i和NXT:2100i对中国的出口。 这里单说光刻机。 9月6日，ASML在官网发表 声明称，荷兰政府公布了浸润式DUV光刻机出口新规，自9月7日起生效。 这意味着，ASML向中国出口TWINSCANNXT:1970i、1980i等DUV光刻机的禁令生效了。 1970i、1980i，这两款光刻机在ASML产品序列中属于中低端产品。 在美国的压力下，荷兰政府从未允许ASML向中国客户运送其最好的EUV工具； 中高端的2000以上浸润式光刻机，
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