日本携手英特尔建先进半导体研发中心，将配备EUV光刻机

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据日经亚洲（Nikkei Asia）9月3日报导，美国处理器大厂英特尔已决定与日本官方研究机构在日本设立先进半导体研发中心，以提振日本半导体设备制造与材料产业。 据介绍，这座新的研发中心将在未来3到5年落成，拟配备极紫外光（EUV）光刻设备。设备制造商与材料商只要缴纳一定的费用，就能使用设备进行测试与试作。这将是日本第一座拥有供厂商共用EUV光刻机的研发中心，也是日本研究机构首度计划导入EUV光刻机。 该研发中心将由隶属于日本经济产业省（经产省）的产业技术综合研究所（AIST）负责营运，而英特尔将提供使用EUV技术制造芯片的专业知识。这座研发中心的总投资额将达数百亿日元。 EUV在制造5nm以下先进芯片上扮演重要角色，不过一台EUV设备动辄售价约1.5亿美元，并非是许多材料商与设备商可单独负担的价格。 而资金不够雄厚的 ………………………………