港大褚智勤教授、林原教授等 Nature: 边缘剥离规模化制备超平坦、超柔性金刚石薄膜

文章预览

点击蓝字关注我们 金刚石因其卓越的载流子迁移率、导热性、介电击穿强度以及从红外到深紫外（UV）的超宽带隙和光学透明度，是电子和光子应用的优秀材料。为了替代昂贵的天然钻石，通过高压高温和化学气相沉积（CVD）技术大规模生产的合成金刚石（单晶和多晶类型）在各种电气、光学、机械、热和声学应用中得到了广泛探索。尽管金刚石具有巨大的前景，但由于无法获得与发达的硅基半导体技术完全兼容的大面积、分层形式的这种材料，它们的广泛使用仍然受到阻碍。因此，开发具有出色可控性和异质集成潜力的高质量晶片级超薄金刚石膜，将为下一代电子和光子器件带来无数新机遇。目前，超薄金刚石是通过切片大块金刚石或在异质基底上通过CVD生长获得的。切片可以产生高质量的单晶金刚石（SCD），但该方法不适用于工业应用，因为 ………………………………