富士胶片宣布投资9.74亿元开发2nm以下制程所需材料

文章预览

日本半导体材料大厂富士胶片（Fujifilm）于9月30日宣布，将扩大位于日本静冈县和大分县的子公司的半导体材料工厂产能，以开发可提供2nm以下先进制程使用的半导体先进材料。 富士胶片表示，在当前半导体陷进制程持续推进，预计2025年将可以迈进到2nm制程，市场需求快速提升的情况下，富士胶片决定进行扩产的动作。 富士胶片指出，当前位在四本静冈县吉田町和大分市两座半导体材料工厂，其投资金额分别为约130亿日元和70亿日元，合计约200亿日元（9.74亿元）。未针对接下来的扩产动作，计划在2025年秋季和2026年春季启动新厂房得兴建，届时还将引进新的检验装置，开发光刻胶等半导体制造使用的先进材料等。 除了光刻胶之外，富士胶片拥有感光材料、曝光周边和CMP浆料等半导体材料相关产品，其中包括图象感测器材料、清洁用品、光罩用抗 ………………………………