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俄罗斯光刻机,新路线图

半导体行业观察  · 公众号  ·  · 2024-12-16 09:27
    

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👆如果您希望可以时常见面,欢迎标星🌟收藏哦~ 来源:内容编译自cnews,谢谢。 俄罗斯已经制定了一项计划,制造用于制造现代芯片的设备,该设备将比当前市场垄断者ASML的设备更便宜、更高效。该项目的作者认为,我国不宜走荷兰公司的道路,因为成本太高。因此,俄罗斯将建造的装置波长不是13.5纳米,而是11.2纳米。 俄罗斯已经制定了制造光刻机的“路线图”,该光刻机将比荷兰 ASML 的设备更便宜、更容易制造。但与此同时,俄罗斯的设施也同样有效。这是由俄罗斯科学院微结构物理研究所(IPM RAS)员工Nikolai Chkhalo编写的“高性能X射线光刻发展新概念”得出的结论。CNews 的。 文件指出,“路线图”的实施将使该国能够在合理的时间内创建自己的现代纳米光刻装置。 IPM RAS建议将光刻机的工作波长从13.5纳米减少到11.2纳米。预计这种方法将 ………………………………

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