国产光刻机！重大突破！

文章预览

  半导体行业圈 振兴国产半导体产业！ 受国产光刻机取得重大技术突破的利好刺激，周三（9月18日），A股市场中的光刻机板块大幅上扬，多只股票强势涨停。 近日，工信部发布了《首台（套）重大技术装备推广应用指导目录（2024年版）》。该文件显示，在电子专用装备目录下，集成电路设备方面：氟化氩光刻机，光源193纳米，分辨率≤65nm，套刻≤8nm，能够支持28纳米工艺芯片的量产。中国首台（套）重大技术装备是指国内实现重大技术突破、拥有知识产权、尚未取得明显市场业绩的装备产品，包括整机设备、核心系统和关键零部件等。 这一进展意味着国产光刻机已经能够实现65纳米工艺的芯片生产，这是中国在半导体设备领域的一个重要里程碑，也表明了中国在未来几年内有可能达到国际先进水平的决心。 除了光刻机，工信部在印发的《首台 ………………………………