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特别需要注意的是，从4月1日起，“特定测量和检查设备”将需要许可证。根据荷兰政府网站公告，荷兰政府宣布其将从2025年4月1日起，针对有限的几种用于先进半导体生产的技术收紧出口规定。荷兰就某些ASML光刻机的出口管制调整到与美国一致，后续或将配合美国诉求进一步收紧制裁。 其中包括用于发现或检查装有晶圆的晶圆上的缺陷的系统图案设备，并使用波长小于 400 nm 的光源 & 分辨率小于（优于）或等于 1.65 nm 的电子束 & 冷场发射 电子束源 & 两个或多个电子束源；设计用于在开发后测量生产晶圆的对准或聚焦的系统光刻胶或蚀刻后，使用基于图像的对齐或基于衍射的测量方法（套刻）。 海外：展望后续制裁节奏，根据产业调研来看，此前传闻的海外代工受限、检查ai芯片白手套、光刻机国内维保限制在持续发生，相关制裁新规在拜登下台
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