钛（Ti）与氮化钛（TiN）为什么要结合使用？

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文章来源： Tom聊芯片智造 原文作者： Tom 一般W在镀膜前会长两层薄膜，Ti 和 TiN，分别是什么作用呢？ 不长 Ti 直接沉积一层 TIN 可不可以呢？ 1. Ti与TiN的性质对比 性质 钛（Ti） 氮化钛（TiN） 密度 4.51 g/cm³ 5.22 g/cm³ 熔点 1668°C 2950°C 维氏 硬度 70-80 HV 1800-2100 HV 莫氏硬度 6 9 电阻率 42-60 µΩ·cm 25-30 µΩ·cm 导电性 较好 较好 热膨胀系数 8.6 µm/m·K 9.35 µm/m·K 颜色 银灰色 金黄色 耐腐蚀性 较好 优秀 从上表上可以得出几个结论： 氮化钛非常硬 氮化钛熔点很高 钛与氮化钛的热膨胀系数差不多 2. Ti与TiN各有什么用途？       Ti（钛） 钛常用作粘附层，用于改善材料与基底的粘附性。 作为阻挡层，钛可防止铜等金属在高温下的扩散。     TiN（氮化钛）  阻挡层 TiN常用于工具的硬质涂层，提高耐磨性和使用寿命。 3. 为什么要同时使用？ 需要从粘附性和应力 ………………………………