武汉大学口腔医院贺红/花放最新CEJ：具有抗菌、矿化和荧光性能的新型正畸粘接剂对釉质脱矿的预防作用

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    第一作者： 罗婷，颜家榕 通讯作者：花放，贺红 通讯单位：武汉大学口腔医院             研究速览 近期，武汉大学口腔医院贺红/花放以《Novel orthodontic adhesives with antibacterial, mineralization and fluorescence properties for enamel demineralization prevention》为题在 Chemical Engineering Journal 发表文章。釉质脱矿是固定矫治最常见的不良反应之一，主要因为正畸矫治器会影响口腔卫生的维护，可能导致牙菌斑堆积和口腔菌群失调。粘接剂对于固定矫治是必不可少的，但牙齿表面存在过多的粘接剂可能会影响美观，并成为牙菌斑堆积的位点。目前，暂无相关研究同时解决正畸釉质脱矿和粘接剂准确去除的问题。本研究以具有荧光特性的氨基硅烷功能化氧化锌量子点（amino-silane functionalized zinc oxide quantum dots, AF-ZnO QDS ）、季铵盐抗菌材料甲基丙烯酸二甲氨基十六烷基 ………………………………