佳能首台纳米压印光刻设备正式出货！

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2024年9月26日，佳能公司宣布，已于9月26日向总部位于美国德克萨斯州的半导体联盟——德克萨斯电子研究所 （TIE） 运送其最先进的纳米压印光刻 （NIL） 系统FPA-1200NZ2C 。 在2023年10月13日，佳能正式发布了全球首款NIL系统FPA-1200NZ2C，成为了全球首个将采用 NIL 技术的半导体制造系统商业化的公司，该技术以不同于传统投影曝光技术的方法形成电路图案。 传统的光刻设备通过将电路图案投射到涂有光刻胶的晶圆上来转移电路图案，而新产品通过将印有电路图案的掩模像印刷一样，将图形压入晶圆上的光刻胶来实现。它的电路图案转移过程不经过光学部件，也可以在晶圆上忠实地再现掩模上的精细电路图案。新系统降低了功耗和成本，可实现最小线宽为14nm的图形化，相当于5nm节点。 当下的5nm制程的先进半导体制造设备市场，则由ASML的EUV光刻机所垄断 ………………………………