攻克“卡脖子”！这一关键新材料实现重大突破

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来源： 东湖国家自主创新示范区 、科创板日报、化工新材料、中国光谷 据东湖国家自主创新示范区官网10月15日消息，近日 武汉太紫微光电科技有限公司（下称“太紫微公司”）推出的T150 A-光刻胶产品，已通过半导体工艺量产验证， 实现配方全自主设计 。 该产品 对标国际头部企业主流KrF光刻胶系列 。 相较于国外同系列产品UV1610，T150 A在光刻工艺中表现出的 极限分辨率达120nm，且工艺宽容度更大，稳定性更高，坚膜后烘留膜率优秀，其对后道刻蚀工艺表现更为友好，通过验证发现T150 A中密集图形经过刻蚀，下层介质的侧壁垂直度表现优异 。 这标志着国产光刻胶在性能上已经能够与国际主流产品相媲美，对于推动国产光刻胶的产业化和自主可控具有重要意义。 太紫微公司 由华中科技大学武汉光电国家研究中心的团队于2024年5月成立， 注册资本 ………………………………