聚焦离子束（FIB）的技术史与商业演化

主要观点总结

本文主要描述了聚焦离子束（FIB）技术的历史发展，应用领域以及参与这一领域研究和发展的公司。从离子源的设计和技术的半个世纪历史，到现代液态金属离子源（LMIS）和离子柱设计的分辨率不断提高，结合双束机器中离子束与电子束的使用，FIB的应用领域已经大幅扩展。此外，本文还列出了参与这一技术研究和开发的重要公司和个人的贡献。

关键观点总结

关键观点1: 聚焦离子束（FIB）技术历史和发展

从离子源的设计和技术开始，描述了聚焦离子束技术的半个世纪历史，包括早期的研究者如Gilbert、Krohn和Clampitt等，以及他们的工作对现代FIB技术的影响。

关键观点2: 聚焦离子束（FIB）的应用领域

列举了聚焦离子束技术在半导体制造、材料分析、微纳加工等领域的应用，如局部掺杂、铣削、表面化学、光刻、材料微区分析等。

关键观点3: 参与聚焦离子束（FIB）技术研究和发展的公司和个人

介绍了参与聚焦离子束技术研究和发展的重要公司如FEI、JEOL、Orsay Physics等，以及个人的贡献，如Seliger、Orloff、Melngailis等。

文章预览

聚焦离子束 (FIB) 技术 如今已成为半导体制造和许多研究实验室中广受欢迎的技术 , 它越来越多地用于分析各种材料以及微纳器件的快速原型制作。尽管如此 , 人们可能并不完全了解这一技术的悠久历史和复杂的发展历程。 事实上 , FIB 仪器和技术的历史可以追溯到很久以前。早在 20 世纪 60 年代 , 人们就开始探索利用离子束对样品进行分析和加工的可能性。随后的几十年里 , 这一技术不断发展和完善 , 逐步实现了从实验室原型到真正的应用产品的转变。 值得一提的是 , FIB 技术的发展是一个复杂创新的典型例子。它不仅依赖于预期的渐进式改进 , 也受益于各个领域的突破性进展。例如 , 离子源技术、聚焦光学系统以及计算机控制系统的不断优化 , 都为 FIB 技术的成熟发挥了关键作用。 需要特别强调的是 , 试图全面描述 FIB 这样一个动态话题的历史存 ………………………………