国产光刻机！突发！

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网传咱们突破了8nm光刻机，非常火，各种朋友在转载，多个平台登上热搜榜！虽然很振奋人心，但谣言止于智者，咱们还是要认清现实，不要被带节奏了... 首先，这个消息是9.11号发布的 9.11号张江高科（参股上海微电子）下午直线拉升，大概率就是因为这个消息。（提前有人知道，谨慎追高...） 其次，网传的氟化氩光刻机其实是65nm干式光刻机...，套刻≤8nm，并不等于能生产出8nm芯片。 28nm工艺要求的套刻精度大约是4nm，8nm套刻精度应该是用来生产65nm芯片的。 我们终于从90nm盘旋了很久走到了65nm，虽然这还是一款低端光刻机相当于20年前ASML的1460K, 多重曝光大概能做到28nm， 但基本一些对功耗要求不太高的芯片都能覆盖。 距离HW用的ASML 低端DUV1980i还差很远， 1980i可实现≤38nm 的分辨率，和2.5nm 的套刻精度，所以多重曝光才能到7nm。 而且这次工信部公 ………………………………