EUV光刻机，太耗电了，让人担忧

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👆如果您希望可以时常见面，欢迎标星🌟收藏哦~ 来源：内容综合自TechInsights，谢谢。 极紫外 (EUV) 光刻技术对于未来数年现代工艺技术和半导体制造至关重要。然而，每台 EUV 工具的耗电量为 1400 千瓦（足以为一座小城市供电），EUV 光刻系统已成为影响环境的大量电力消耗者。 TechInsights 认为 ，到 2030 年，所有配备 EUV 工具的晶圆厂的年耗电量将超过 54,000 千兆瓦 (GW)，这比新加坡或希腊等许多国家每年的耗电量还要多。  目前的低 NA EUV 扫描仪需要高达 1,170 kW 的功率，而下一代高 NA 工具预计每台需要高达 1,400 kW 的功率（根据 TechInsights）。英特尔、美光、三星、SK 海力士，当然还有台积电运营的晶圆厂安装的此类机器数量每年都在增加。 TechInsights 认为，到 2030 年，配备 EUV 扫描仪的晶圆厂数量将从现在的 31 家增加到 59 家，运行中的设备数量将 ………………………………