下一代EUV光刻机竞赛，白热化

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👆如果您希望可以时常见面，欢迎标星🌟收藏哦~ 来源：内容 编译自sedaily，谢谢。 在英特尔和台积电之后，韩国芯片巨头也加入了EUV光刻机新竞赛。 三星电子半导体（DS）部门最早将于今年年底引进High NA极紫外（EUV）设备。除了下一代曝光设备之外，我们还在开发可以检查高数值孔径掩模的设备。看来他们正在积极从事技术开发，以便在与英特尔和台积电等全球半导体竞争对手的“芯片大战”中具有竞争力。 据业内人士13日报道，三星电子最早将于今年年底和明年第一季度开始进口该公司首款High NA EUV设备“EXE:5000”。据说，华城校区的半导体研究中心（NRD）被认为是第一个 Hi-NA 的可能地点。三星的第一台高数值孔径 EUV 设备预计将用于代工。 ASML生产的High NA EUV设备的第一个客户是美国英特尔。据称，继英特尔和台湾台积电之后，三星电子也将 ………………………………