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想要做好刻蚀工艺需要评价哪些指标?

中国科学院半导体研究所  · 公众号  ·  · 2024-06-03 11:32
    

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文章来源: 芯云知 原文作者: Crane 在本篇文章中,我们主要介绍刻蚀工艺评价的工艺参数以及如何做好刻蚀工艺。 一、刻蚀工艺质量评价 1)刻蚀速率 刻蚀速率是指在蚀刻过程中被去除的材料的速率,通常以单位时间内的厚度减少量来表示,单位通常是纳米/秒(nm/s)或埃/秒(Å/s)。厚度可用膜厚仪、台阶仪或SEM等表征。 刻蚀速率=△d/t (Å/min) △d=去掉的材料厚度(Å或um) t=刻蚀所用的时间 (min) 2)刻蚀选择比 在刻蚀过程中,被刻蚀物质上层的抗蚀剂(如光刻胶)或下层的物质这些本来不需要被刻蚀的膜层会同时遭到刻蚀,那么在抗蚀剂和刻蚀材料间需要有一个定义,即刻蚀选择比。 刻蚀选择比=被刻蚀材料的速率/掩膜材料的速率 在微纳加工中,刻蚀选择比是一个重要的参数,它决定了在蚀刻过程中目标材料相对于掩模材料的去除速率。通常情 ………………………………

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