主要观点总结
文章主要介绍了国产光刻机及光刻胶的最新进展,包括国产DUV光刻机在某芯产线的投产、使用海外光刻机生产7nm和5nm芯片的技术进展,以及彤程新材在光刻胶和橡胶助剂领域的业绩和发展。文章还探讨了光刻胶行业的前景,包括多重曝光技术对光刻胶需求的增长,以及彤程新材进军光刻胶行业的战略考虑和优势。
关键观点总结
关键观点1: 国产光刻机取得进展,DUV光刻机在某芯产线投产,良率提升至90%以上。
文章指出,国产光刻机正在取得突破,DUV光刻机已经在某芯产线上投产,预计年底良率将优化至90%以上。
关键观点2: 使用海外光刻机生产7nm和5nm芯片的技术成熟,下半年将升级至四重曝光技术。
文章提到,使用海外光刻机通过双重曝光生产7nm芯片的技术已经成熟,预计下半年将升级至四重曝光的5nm芯片生产技术。
关键观点3: 彤程新材在光刻胶和橡胶助剂领域业绩出色,进军光刻胶行业具有优势。
文章介绍了彤程新材在橡胶助剂行业的领先地位,以及进军光刻胶行业的战略决策背后的原因和优势。
关键观点4: 光刻胶市场前景广阔,多重曝光技术将带动光刻胶需求增长。
文章分析了光刻胶市场的前景,指出多重曝光技术的推广将带动对光刻胶需求的增长。
文章预览
光刻机的国产化正在悄悄取得进展。 据网上流传的消息,国产DUV光刻机已经在某芯的产线上投产,良率约70%左右,预计到年底将优化到90%以上。 另外,使用海外光刻机通过双重曝光生产7nm芯片的技术已经成熟,下半年预计升级至四重曝光的5nm芯片,并在明年向国产DUV设备迁移。 中美科技战从2017年中兴通信被制裁开始,至今不知不觉已经是第8个年头。 8年,原子弹(1956-1964)都研制成功了,光刻机也是时候出成果了。 而在国产光刻机取得突破的同时,光刻胶的好消息也变得越来越多。 比如下面这条消息: “彤程新材4月30日在官微宣布,部分ArF/ArFi光刻胶产品通过国内芯片厂验证,取得了规模量产订单,已开始批量供货。” 在光刻胶板块里,彤程新材属于后来居上的龙头,而且业绩也很不错。 23年年报,公司归属净利4.0亿元,同比增长36.37%,今年
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