AEM：碳基模组16.23%！热退火前α相成核打印高质量的FAPbI3薄膜

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扩大甲酰胺铅三碘化物（FAPbI3）薄膜的涂层对于实现全印刷并进而实现钙钛矿光伏的连续卷对卷生产至关重要。然而，采用无抗溶剂、印刷方法处理的薄膜FAPbI3在环境加工条件下，会遭受不希望的降解为非光活性相。 在这里， 埃尔朗根-纽伦堡大学 Tian Du和Christoph J. Brabec等人 将薄膜加工中最关键阶段确定为铸态湿膜的气淬处理。实现α相纳米晶体的成核及其在室温下的充分生长至关重要，这对于在随后的热退火过程中形成高度结晶和稳定的α-FAPbI3膜的模板生长是必不可少的。没有这些α相纳米晶体的气淬处理薄膜只能通过热退火转化为亚稳态α-FAPbI3。通过精确识别铯离子（Cs+）的自发掺杂作为触发α-FAPbI3成核的关键因素，以及氯离子（Cl−）在增强纳米晶体生长中的作用，为前驱体油墨的添加剂工程提出了一个通用机制。 确定的机制转化为全印刷 ………………………………