中国光刻胶，离日本还有多大差距？

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作者：正解局 本文授权转载自：正解局（微信ID：zhengjieclub） 光刻胶，是芯片制造的关键材料。 为了打破国际垄断，中国企业全力攻关，进步确实很大。 但是，与日本，中国光刻胶仍然有很大的差距。 到底差在哪里？ 中国企业又该如何突围？ 光刻胶，顾名思义，就是光刻机在光刻过程中使用的聚合物薄膜材料，英文直译过来是光致抗蚀剂，能在紫外光、电子束、离子束、X射线等照射或辐射下，发生聚合或解聚反应，把图案留在硅片上。 光刻胶工作原理 我们平常说的光刻胶，其实是一类产品的统称。 按形成的图像来分，有正性和负性两大类。按曝光光源和辐射源的不同就分得更细了，可分为紫外光刻胶、深紫外光刻胶、X-射线胶、电子束胶、离子束胶等。 光刻完成后的晶圆片 每类都有前面说的正负性之分，品种规格很多，非常复杂，对应的 ………………………………