挑战ASML，新型光刻机开始供货！年目标十几台！

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‍ 集微网·爱集微APP，各大主流应用商店均可下载 佳能（Canon）9月26日宣布，将首次供应半导体的下一代制造设备——“纳米压印”光刻机（NIL），这批设备将交付给美国“得克萨斯州电子研究所”。 据了解，该设备在半导体制程中用于在晶圆上绘制电路图。目前，标准方法是使用强光来绘制电路。佳能的设备采用的方法是一种像盖章一样的，将纳米级别的图案刻在掩膜上，然后将图案转印的技术。 目前，先进制程使用的是极紫外（EUV）光刻技术，ASML是全球唯一可供应极紫外光刻设备的制造商。 佳能推出的纳米压印光刻设备经过改良后甚至能生产2纳米级半导体，希望挑战ASML在光刻设备市场的地位。与使用光的传统方法相比，纳米压印的优势在于能够抑制耗电量和成本。 佳能的纳米压印设备可绘制5纳米级半导体工艺所需要的最小线宽为14纳米的 ………………………………