主要观点总结
文章介绍了下一代维系摩尔定律的关键技术——高数值孔径EUV光刻技术。该技术旨在缩小设备的几何尺寸以继续推进计算技术的发展。文章详细描述了EUV光刻技术的历史发展、工作原理、面临的挑战以及解决方案。科学家们正在开发高数值孔径EUV系统，预计将于2025年投入商用。此外，文章还提到了其他相关技术和行业合作以推动该技术的实现。
关键观点总结
关键观点1: 下一代维系摩尔定律的技术是高数值孔径EUV光刻。
此技术涉及对系统内部光学系统的重大改造，以提高分辨率，使芯片制造商可以制造越来越精细的电路。
关键观点2: EUV光刻技术是过去两代尖端芯片背后的驱动技术，也是智能手机、平板电脑、笔记本电脑和服务器中不可或缺的部分。
现在，科学家们正在改进EUV光刻技术，以缩小设备的几何尺寸，从而继续推进计算技术的发展。
关键观点3: 高数值孔径EUV光刻技术面临诸多挑战，如缩倍特征、反射角问题、成像场大小等。
科学家通过研发新的解决方案来克服这些挑战，如改变缩倍特征、调整反射角、重新设计掩模台和晶圆台等。
关键观点4: 第一个高数值孔径EUV系统ASML EXE：5000将于2024年初安装在新实验室中，该实验室将助力客户、掩模制造商、光刻胶供应商等开发实现高数值孔径EUV所需的基础设施。
科学家正在推动高数值孔径EUV技术的实现，因为这是维系摩尔定律的关键组成部分。
关键观点5: 实现0.55数值孔径并不是最终目标，阿斯麦、蔡司和整个半导体生态将在此基础上继续向更好、更快、更新颖的技术迈进。
未来，该技术将继续推动计算技术的快速发展。
文章预览
可实现更小晶体管的下一代技术是高数值孔径EUV光刻。 摩尔定律是指在给定面积的硅片上，晶体管的数量大约每两年翻一番，这种增益推动了计算技术的发展。在过去半个世纪里，科学家们将该定律视为一种类似进化或衰老的不可避免的自然过程。然而，现实却大不相同。要跟上摩尔定律的步伐，需要花费几乎难以想象的时间、精力和人类智慧，地球上无数的人和无数台最复杂的机器都被裹挟其中。 其中最重要的可能就是极紫外（EUV）光刻机了。EUV光刻技术是几十年研发工作的产物，是过去两代尖端芯片背后的驱动技术，过去3年里，每一款高端智能手机、平板电脑、笔记本电脑和服务器中都有它的身影。然而，摩尔定律必须继续前进，芯片制造商也在继续推进他们的路线图，这意味着需要进一步缩小设备的几何尺寸。 因此，科学家们正在阿
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