摩尔定律下的奇迹：揭秘一个让科技飞速发展的机器

主要观点总结

文章介绍了下一代维系摩尔定律的关键技术——高数值孔径EUV光刻技术。该技术旨在缩小设备的几何尺寸以继续推进计算技术的发展。文章详细描述了EUV光刻技术的历史发展、工作原理、面临的挑战以及解决方案。科学家们正在开发高数值孔径EUV系统，预计将于2025年投入商用。此外，文章还提到了其他相关技术和行业合作以推动该技术的实现。

关键观点总结

关键观点1: 下一代维系摩尔定律的技术是高数值孔径EUV光刻。

此技术涉及对系统内部光学系统的重大改造，以提高分辨率，使芯片制造商可以制造越来越精细的电路。

关键观点2: EUV光刻技术是过去两代尖端芯片背后的驱动技术，也是智能手机、平板电脑、笔记本电脑和服务器中不可或缺的部分。

现在，科学家们正在改进EUV光刻技术，以缩小设备的几何尺寸，从而继续推进计算技术的发展。

关键观点3: 高数值孔径EUV光刻技术面临诸多挑战，如缩倍特征、反射角问题、成像场大小等。

科学家通过研发新的解决方案来克服这些挑战，如改变缩倍特征、调整反射角、重新设计掩模台和晶圆台等。

关键观点4: 第一个高数值孔径EUV系统ASML EXE：5000将于2024年初安装在新实验室中，该实验室将助力客户、掩模制造商、光刻胶供应商等开发实现高数值孔径EUV所需的基础设施。

科学家正在推动高数值孔径EUV技术的实现，因为这是维系摩尔定律的关键组成部分。

关键观点5: 实现0.55数值孔径并不是最终目标，阿斯麦、蔡司和整个半导体生态将在此基础上继续向更好、更快、更新颖的技术迈进。

未来，该技术将继续推动计算技术的快速发展。

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