Mate70 5nm芯片之谜 ? DUVi+多曝可能性分析

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事先声明 : 本文主要针对技术做可能性分析 , 对于个别厂商个别机型不做爆料 , 如有雷同纯属巧合 先直接说答案 , 使用浸没式光刻机(DUVi) +多重曝光( Multi-patterning) 作5nm芯片完全可行  , 不计代价甚至能做到3nm , 如果单以光刻(Litho)技术来说 , 拿28nm光刻机来作5nm芯片理论上没问题 , 但是这需要许多条件的同时满足 , 更高的套刻精度(Overlay)只是其中之一 。     这里面有许多定义问题 , 比如行业里并没有所谓28nm光刻机 , 这只是为了给非业内的网民一个比较直观的说法而已 , 28nm光刻机泛指的是ArFi也就是大家所说的浸没式光刻机 , 事实上以目前的半导体技术28nm光刻机做7nm甚至5nm完全可行 , 但这并非单单依靠多重曝光  , 还有许许多多的制程手段 , 比如早期一点的PSM , 模型OPC校正 , Multi-patterning(LELE、SADP等),  overEtch , ILT反演光刻 , 甚至最新的DSA技术在不依 ………………………………