光刻技术，新里程碑

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👆如果您希望可以时常见面，欢迎标星🌟收藏哦~ 在Multibeam看来，今天可以称得上是全球半导体行业的一个里程碑，因为他们今天推出了 MB Platform，——全球首创的多柱电子束光刻 (MEBL：Multicolumn E-Beam Lithography )，可以使芯片工厂变得更好。 据介绍，其新光刻系统（在芯片上印刷图案必不可少）是专为大规模生产而打造的系统。全自动精密图案化技术将用于快速成型、先进封装、高混合生产、芯片 ID、复合半导体和其他应用。Multibeam表示，公司刚发布的平台将以新的生产力优势彻底改变了电子束光刻 (EBL)，同时实现了高分辨率、精细特征、宽视野和大景深。 但其实，Multibeam的这个技术，似乎已经被行业放弃？让我们来看一下他们又想翻起怎样的浪花。 做芯片的第三个选择 纵观当前的芯片生产，主要有三个流派选择，分别是现在被广泛应用的ASML ………………………………