国产光刻机黑马已锁定 中科院+华为双驱动 下一个北方华创

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在科技的璀璨星河中， 一颗新兴的耀眼明星正在缓缓升起， 它不仅在国产光刻机领域扮演着关键角色，更承载着超越“北方华创”的宏伟愿景。 这颗新星， 有着中科院的强大科研支持，并获得了华为等业界巨头的广泛关注 ，是半导体行业中一匹最强的黑马！ 光刻机技术，作为芯片制造的核心环节，其技术难度极高。它汇聚了众多顶尖学科的精华，是工程师们不懈追求和持续改进的成果。 尽管我国在这一领域长期面临外部依赖，尤其是对荷兰ASML光刻机的高度依赖，但这种挑战反而激发了我们自主创新的决心和勇气。 最近，两个重大的好消息相继传来，为国产光刻机的发展注入了新的活力。 首先，北京大学的研究团队在中关村论坛上发布了关于“转角氮化硼光学晶体”的原创理论与材料，这一创新发现为光刻机技术的进一步发展提供了坚实的基 ………………………………