没有EUV光刻机，怎么做5nm芯片？

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本文来自微信公众号： 腾讯新闻（ID：qqnewstiejun） ，作者：Leslie Wu（前台积电建厂专家），编辑：苏扬，题图来自：视觉中国 你可能不知道，问世超过20年的DUV光刻机，还在发光发热。 使用浸润式DUV光刻机+多重曝光技术生产5nm芯片完全可行，不计代价的情况下甚至能做到3nm。 尽管理论上可行，且在7nm节点上已被部分晶圆厂验证过，但这需要诸多条件同时满足，比如多重曝光中关键的“套刻精度”—— 多次曝光之间图形对准的精度 。 此外，也涉及到许许多多的制程手段，比如相移光罩、模型光学临近效应修正、过蚀刻、反演光刻等，甚至基于最新的定向自组装光刻技术，在不依赖更高分辨率光刻的情况下，也有生产5nm芯片的可能性。 当然，这么做需要付出高昂的成本，一般晶圆厂不会采用这种极端的手段来量产先进工艺芯片，毕竟主流的方案 ………………………………