为什么我们要攻克EUV光刻机？

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点击 蓝字 关注我们 质量开讲，让质量有温度 来源 | 知乎 作者 | 稗田椎菜、 俗不可耐、 Cypherpunk1984、 winningman 一、为什么EUV光刻机很重要？ 经过这几年媒体的科普大部分人已经知道 EUV   对先进制程很重要，但很少有人讲过为什么多重暴光这条路注定走不下去。 简单来讲虽然理想状态下多重暴光能够用更宽的光源做出和EUV同水平的pitch，但实际操作中由于各种公差导致多重暴光出来的pitch是不均匀分布的，这对前期设计和后期利用都提出了极高的要求。 二、为什么制造EUV光刻机很难？ EUV主要的难点在于： (a)足够亮并且稳定的光源； (b)尽量少吸收EUV的反射式photomask； (c)尽量少吸收EUV的photoresist，或者将photoresist 涂抹的足够薄的技术； (d)反射镜会吸收一部分EUV并被损伤，这个过程会产生的颗粒并附着在 photomask上影响蚀刻的内容； (e)纳米级别移 ………………………………