国产厂商引入首台光刻机设备！

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‍ 集微网·爱集微APP，各大主流应用商店均可下载 据宁波前湾新区管理委员会7月15日消息，近日宁波冠石半导体有限公司迎来关键节点，引入首台电子束掩模版光刻机。据悉，该设备是光掩模版40nm技术节点量产及28nm技术节点研发的重点设备。 光掩模版是集成电路制造过程中光刻工艺所使用的关键部件，类似于相机“底片”，光线经过掩膜版后，可在晶圆表面曝光形成电路图形。目前，我国高精度半导体光掩模版产品主要仍依赖于进口，国产化率极低。 据了解，冠石半导体主要从事45nm~28nm半导体光掩模版的规模化生产。当前，冠石半导体一期洁净车间设计产能为月产5000片180nm~28nm集成电路掩模版。据冠石相关负责人介绍，企业正加速推进海外布局战略，并在世界一流半导体光掩模版制造技术班底的加持下，预计今年底，企业将陆续实现为国内外中 ………………………………