石墨烯膜，最新Nature子刊！

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第一作者：Zongyao Zhou 通讯作者：Kumar Varoon Agrawal 通讯单位：瑞士洛桑联邦理工学院 论文速览 原子厚度的多孔晶格的制备具有吸引力，可以实现较大的离子-离子选择性和离子通量。如果可以结合高精度孔，石墨烯膜是一种理想的选择性层，然而，在孔径分布的末端避免较大的非选择性孔还具有挑战性，降低了离子-离子选择性。 本研究提出了一种电化学修复策略，在大面积石墨烯膜上掩盖了较大的非选择性孔隙，显著提高了离子-离子选择性。通过在石墨烯上电聚合沉积了10 nm厚的共轭微孔聚合物（CMP）层，利用这两种材料之间的强π-π相互作用。CMP层本身不具有选择性，但它有效地掩盖了石墨烯孔隙，导致了从零维孔隙中实现的Li + /Mg 2+ 选择性达到300，并且Li + 离子的渗透率高于已报道的材料。 这种可扩展的修复策略使得单层石墨烯膜的制备成为 ………………………………