光刻机的故事（上）：如何用极紫外光制造电路板？

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芝能智芯出品 光刻是半导体制造中的最为关键技术，用于在硅片上精确地转移电路设计。 随着摩尔定律的推进，芯片上的晶体管数量持续增加，对光刻技术的要求也越来越高。 从最初的紫外线到深紫外线，再到极紫外光刻技术，每一次进步都伴随着巨大的技术和工程挑战。 光刻机是如何发展起来的？本文分为上下两篇来介绍这个故事： ●  第一：光刻技术的基础和早期发展 ，包括极紫外光刻技术 （EUV） 的起源和初步挑战。 ●  第二：EUV技术如何克服这些挑战 ，并最终成为半导体制造中的关键工具。 Part 1 光刻技术的发展 在半导体 fabrication 中，光刻是使用光敏感化学物质在硅晶圆上刻印电路的过程。 随着电路缩小到纳米级，半导体行业不得不采用独特的光刻特定光源和相关技术，因为可见光谱的光超过了所需电路图案的宽度。 于是，深紫外 ………………………………