光刻机：国产化率仅为2.5%，核心原因在于零组件供应与整机技术（附36页PDF）

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点击 最 下方 关注《材料汇》 ， 点击“在看”和“ ”并分享 添加 小编微信 ，寻 志同道合 的你 写在前面 （文末有惊喜） 一直在路上，所以停下脚步，只在于分享 包括： 新 材料/ 半导体 / 新能源/光伏/显示材料 等 正文 PS：本文涉及光刻机、光刻胶、国产化等信息，请尽快阅读完毕。 延伸阅读： 1、 ASML：high-NA EUV光刻机的EUV技术路线解析（45页PPT） 2、 光刻机深度报告：111页PPT详解光刻机技术与市场及国产化如何破局 3、 半导体设备：光刻机产业发展现状与技术发展趋势分析（7549字） 4、 ASML：光刻机产业路线图与技术战略（附27页PPT） 5、 光刻机的未来技术路径、市场格局与机遇、国产替代分析（附29页PPT） 6、 ASML、佳能、尼康、蔡司：全球光刻机市场的四大巨头（10243字） 7、 光刻机深度报告：126页详解光刻机系统与竞争格局、ASML和国内企 ………………………………